產(chǎn)品時間：2024-06-02
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日立離子研磨裝置IM4000 II 具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：
與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間。
（參考加工速率：硅元素為300微米/小時 — 加工時間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺裝置：
為便于樣品設置和定義研磨邊緣，可將樣品臺裝置拆卸。
特點 |
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